MEC光と技

株式会社メック

欠陥分類機能

検出した欠陥の検出特徴量から欠陥種類を分けることができます。
また、分類した各欠陥毎に、表示・出力方法等の設定が可能となります。

欠陥分類方法

STEP01

光学系単位で分類

STEP02

処理系列単位で分類

  • 通常処理(暗欠陥 or 明欠陥 or 暗+明)
  • 2DF処理(暗欠陥 or 明欠陥 or 暗+明)
STEP03

特徴量で分類

  • 面積
  • 長さ
  • 縦横比
  • 面積率
  • 平均濃度
  • ピーク濃度
STEP04

ランク判定(優先度)毎に、アウトプット方法を選択

  • データ出力可否
  • NG出力可否 等

再測定/再分類

検査履歴データはデータシミュレーションが可能です
  • 閾値や2DF ブロックサイズ等を変更し、検査ロット単位での再測定結果が出力できます。
  • 分類条件(面積、幅、長さ等)を変更し、検査ロット単位での再分類結果が出力できます。また、欠陥分類の条件調整等にも活用できます。

分類アシスト機能

検出した欠陥情報を使用し、自動で欠陥分類条件を作成することができます。

画像分類機能

検出した欠陥の画像を、画像解析し、より目視に近い分類を行うことができます。

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